随着芯片制造商加速向先进制程节点迈进，荷兰公司生产的高数值孔径EUV光刻机的量产能力不断提升。最新消息显示，全球已有4家客户启动了10台High-NA EUV光刻机的使用，另外3台也已进入发货和安装阶段。每台光刻机的售价高达4亿美元，约合人民币27亿元。
英特尔已在其酷睿Ultra系列3处理器（代号Panther Lake）的批量生产中采用了High-NA EUV技术，该处理器使用Intel 18A工艺，成为首个实现量产的逻辑产品。根据最新数据，High-NA EUV（EXE）系统已经为超过135万片晶圆进行了曝光。同时，已认证的EXE:5200B系统在验收测试中实现了每小时135片晶圆的产出，显示出具备高效生产的能力。
未来的High-NA EUV产能规划已对外公布。在AB模式下，预计到本十年末，EXE:5200B的产能将提升至每小时135片，EXE:5200C为160片，EXE:5200D为175片，而EXE:5400E将达到180片。在AA模式下，产能预计可超过210片。荷兰公司还在计划推出EXE:5600，目标是实现超过每小时250片的吞吐量，但具体的量产时间尚未公布。 龙8国际登录
此外，荷兰公司还强调了High-NA EUV光刻技术在内存制造方面的前景。其先进的成像能力能够支持多达五个未来的2D DRAM工艺节点，从而扩展在内存制造中的应用优势。报告指出，与0.33-NA EUV平台相比，0.55-NA平台具备关键优势，后者通常需要复杂且昂贵的多重曝光工艺。更高的分辨率允许单次曝光完成更多层的图案化，从而有望简化工艺、降低缺陷率和缩短周期时间，从而降低整体制造成本。
SK海力士计划在2025年下半年部署首台用于量产的High-NA EUV系统，这标志着其在下一代产品量产中的早期进展。报告显示，该存储器巨头已在其DRAM生产工厂M16安装了EXE:5200B光刻机。与此同时，三星尚未公布其在存储器领域使用High-NA EUV的实施时间表，但计划在预计2020年左右量产的1nm逻辑工艺中采用该技术。
